拓荆科技获得实用新型专利授权：“一种半导体工艺腔体”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技（688072）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种半导体工艺腔体”，专利申请号为CN202323145535.1，授权日为2024年9月13日。

专利摘要：本实用新型涉及半导体制造设备技术领域，更具体的说，涉及一种半导体工艺腔体。本实用新型提供了一种半导体工艺腔体，包含一个半月环陶瓷件：所述半月环陶瓷件，设置在腔室身部，为半圆形结构；所述半月环陶瓷件的开口位置，对应于传片通道；其中，所述半月环陶瓷件的半月环两端侧面设置凸台结构，所述传片通道的阀口侧面设置与凸台相匹配的卡口。本实用新型通过在半月环增加凸台结构，有效避免了因半月环位移而引起的传片问题和粒子问题，显著提高了半导体生产的良品率。同时，通过改进底部隔热陶瓷环和支撑陶瓷环的接触面，扩大了接触面积，降低了滑动风险。

今年以来拓荆科技新获得专利授权25个，较去年同期减少了53.7%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了3.14亿元，同比增49.61%。