晶盛机电获得发明专利授权：“抛光机及抛光状态监测方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶盛机电（300316）新获得一项发明专利授权，专利名为“抛光机及抛光状态监测方法”，专利申请号为CN202410727790.7，授权日为2024年8月6日。

专利摘要：本发明提供了一种抛光机及抛光状态监测方法，属于晶片抛光技术领域，解决了现有技术抛光机停机次数多的问题。本发明的抛光机包括抛光盘，抛光盘上设有抛光垫，用于抛光晶片；抛光头，抛光头设置于抛光盘上方，抛光头包括：软基垫和本体，软基垫设置于抛光头底部，软基垫用于吸附晶片，本体设置于软基垫上方远离抛光垫的一侧，本体与软基垫之间形成一空腔；以及检测组件，包括磁场发生器和磁场检测器。本申请通过在抛光盘上设置磁场发生器以形成磁场，并利用磁场的磁吸力与抛光头内的磁场检测器相配合，从而快速检测晶片状态为正常运行或飞片，便于及时执行相应的抛光控制策略，可延长抛光机的使用寿命，减少停机次数。

今年以来晶盛机电新获得专利授权89个，较去年同期减少了15.24%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了11.45亿元，同比增43.83%。

数据来源：企查查

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