晶合集成获得发明专利授权：“控制刻蚀图形偏差的方法和系统”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“控制刻蚀图形偏差的方法和系统”，专利申请号为CN202410347138.2，授权日为2024年7月9日。

专利摘要：本申请公开了一种控制刻蚀图形偏差的方法和系统。获取显影后预设图形的关键尺寸的目标值；以预设图形为掩膜刻蚀形成刻蚀图形后，获取刻蚀图形的关键尺寸的第一测量值；获取预设图形的关键尺寸随曝光能量的变化率以及以预设图形为掩膜刻蚀形成刻蚀图形的标准刻蚀偏差；根据关键尺寸的目标值、关键尺寸的第一测量值、标准刻蚀偏差和变化率，得到下一次形成预设图形的曝光能量的补偿值。利用刻蚀图形的关键尺寸的第一测量值调整形成预设图形的曝光能量，从而调整预设图形的关键尺寸，进而得到精度更高的刻蚀图形，消除从形成预设图形到得到刻蚀图形过程中存在的偏差对刻蚀图形关键尺寸的影响。

今年以来晶合集成新获得专利授权179个，较去年同期增加了62.73%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了10.58亿元，同比增23.39%。

数据来源：企查查

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