晶合集成获得发明专利授权：“一种图像传感器及其制备方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种图像传感器及其制备方法”，专利申请号为CN202410374098.0，授权日为2024年6月14日。

专利摘要：本发明提供一种图像传感器及其制备方法，制备方法包括以下步骤：提供衬底，衬底上依次形成有金属结构层、硬掩模复合层和第一TEOS层，硬掩模复合层依次包括氧化物层和氮化物层；刻蚀第一TEOS层，刻蚀停止在氮化物层中，以形成开口；采用氮化物层对氧化物层高刻蚀选择比的刻蚀工艺，在开口处刻蚀所述氮化物层；采用不含氟元素的刻蚀气体，在开口处干法刻蚀所述氧化物层，以通过在金属结构层和第一TEOS层之间增设硬掩模复合层，以将刻蚀第一TEOS层时的刻蚀停止层从现有的氮化钛层表面调整至氮化物层中，使得刻蚀第一TEOS层时刻蚀气体并没有氮化钛接触，不会产生副产物，同时在刻蚀氧化物层时采用不含氟元素的刻蚀气体，避免生成副产物，并不会出现金属刻蚀缺陷。

今年以来晶合集成新获得专利授权163个，较去年同期增加了87.36%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了10.58亿元，同比增23.39%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成（网信算备310104345710301240019号），与本站立场无关，如数据存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。