晶合集成获得发明专利授权：“一种图像传感器的制作方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种图像传感器的制作方法”，专利申请号为CN202410129350.1，授权日为2024年6月4日。

专利摘要：本发明提出了一种图像传感器的制作方法，属于半导体制造技术领域，包括以下步骤：提供一衬底，包括器件区和非器件区；在衬底上形成第一氧化层，第一氧化层覆盖器件区并延伸至部分非器件区上；在非器件区的衬底上形成台阶；在衬底上形成第二氧化材料层，第二氧化材料层覆盖第一氧化层、台阶的表面和侧壁；在第二氧化材料层表面形成牺牲层；对牺牲层进行至少两次平坦化处理，以去除牺牲层和部分厚度的第二氧化材料层，再进行抛光处理，形成第二氧化层；在第二氧化层上形成高键合强度的键合接触层；将键合接触层与承载基板进行键合，形成图像传感器。本发明提供的一种图像传感器的制作方法，能有效改善图像传感器的质量和良率。

今年以来晶合集成新获得专利授权143个，较去年同期增加了95.89%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了10.58亿元，同比增23.39%。

数据来源：企查查

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