晶合集成获得发明专利授权：“一种图像传感器及其制作方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种图像传感器及其制作方法”，专利申请号为CN202410199372.5，授权日为2024年5月17日。

专利摘要：本发明公开了一种图像传感器及其制作方法，属于半导体制造领域。针对现有技术中存在的背照式图像传感器暗电流高、有串扰效应的问题，本发明提供了一种图像传感器及其制作方法，包括衬底；隔离层，设置在衬底一侧；浅沟槽隔离结构，由衬底另一侧表面向内延伸并与隔离层接触；深沟槽隔离结构，位于隔离层背离浅沟槽隔离结构一侧；格栅结构，设置在所述深沟槽隔离结构上；以及多层光电感应区，设置在深沟槽隔离结构之间的区域内，还包括在格栅结构之间的滤光结构。通过先去除部分衬底区域；在去除区域形成多层光电感应区；后在形成深沟槽隔离结构以及格栅结构，并最终设置滤光结构；它具有减少串扰效应、降低暗电流以及提高图像质量的效果。

今年以来晶合集成新获得专利授权126个，较去年同期增加了137.74%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了10.58亿元，同比增23.39%。

数据来源：企查查

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