证券之星消息，根据企查查数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“膜层制备方法、发光基板及发光装置”，专利申请号为CN202111437550.6，授权日为2024年4月26日。
专利摘要：本公开提供了一种膜层制备方法、发光基板及发光装置，膜层制备方法用于在衬底上形成第一功能膜层，包括：在衬底上图案化形成第一初始膜层，第一初始膜层具有导电性能，第一初始膜层包括第一液晶材料，第一液晶材料的熔点大于第一功能膜层的环境温度；将第一初始膜层加热至第一预设温度，以使第一液晶材料呈现为液体状态；将液体状态下的第一液晶材料降温至第二预设温度，以使第一液晶材料呈现为固体状态，得到第一功能膜层；其中，第一预设温度大于第一液晶材料的熔点或清亮点，且小于衬底的可承受温度；第二预设温度小于第一液晶材料的熔点。采用本公开技术方案可以形成表面平整的第一功能膜层。
今年以来京东方Ａ新获得专利授权1344个，较去年同期增加了55.38%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了113.2亿元，同比增1.97%。
数据来源：企查查
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