晶合集成获得发明专利授权：“掩膜版图的自动检测方法、装置、处理器以及电子设备”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“掩膜版图的自动检测方法、装置、处理器以及电子设备”，专利申请号为CN202311560292.X，授权日为2024年4月5日。

专利摘要：本申请提供了一种掩膜版图的自动检测方法、装置、处理器以及电子设备，该方法包括：在接收到初始图像的情况下，对初始图像进行二值化处理，得到第一中间图像，初始图像为待测试的掩膜版图的图像，掩膜版图包括多个间隔的掩膜图案；对第一中间图像进行滤波处理，得到第二中间图像；对第二中间图像进行轮廓提取，并根据轮廓提取结果，确定间距信息，间距信息包括预定宽度以及预定间距中至少之一，预定宽度为掩膜图案在预定方向上的最小宽度，预定间距为相邻的掩膜图案在预定方向上的最小间隔。本申请解决了现有技术中人工确定版图图片的最小间距，效率较低的问题。

今年以来晶合集成新获得专利授权77个，较去年同期增加了102.63%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了5.02亿元，同比增27.46%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成，与本站立场无关。证券之星力求但不保证该信息（包括但不限于文字、视频、音频、数据及图表）全部或者部分内容的的准确性、完整性、有效性、及时性等，如存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。