南大光电获得发明专利授权：“半导体级四氯化铪的制备方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示南大光电（300346）新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体级四氯化铪的制备方法”，专利申请号为CN202210547006.5，授权日为2024年3月12日。

专利摘要：本发明公开了半导体级四氯化铪的制备方法，在惰性气氛下取用无机纯度在99.9％以上的四氯化铪原料；惰性气氛下升华收集中间馏分，于真空条件升华，高温区温度280℃～250℃，升华温度230℃～210℃，高沸点区温度200℃～180℃，接收区温度150℃～130℃，低沸点区接收温度120℃～90℃；升华结束，破空，在惰性气氛无水无氧条件下刮料。通过高真空减压升华工艺提纯固体源，确保收集到的四氯化铪纯度达到99.999％以上，高真空有效去除高沸点杂质；通过惰性手套箱的使用，确保产品不会吸潮腐蚀；显著降低四氯化铪中的锆、铁、钛等金属无机离子含量，作为制备氧化铪沉积层的原料，满足14nm制程工艺要求。

今年以来南大光电新获得专利授权8个，较去年同期增加了300%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了7893.21万元，同比减7.09%。

数据来源：企查查

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