睿创微纳获得发明专利授权：“一种减反射微结构及其制作方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示睿创微纳（688002）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种减反射微结构及其制作方法”，专利申请号为CN202210674293.6，授权日为2024年2月27日。

专利摘要：本申请公开了一种减反射微结构，涉及光学技术领域，用于光学器件窗口上，包括基底；设于基底上表面和/或下表面的微结构层，微结构层包括至少两层层叠设置的微结构阵列层，每层微结构阵列层包括多个微结构，不同微结构阵列层中的微结构的材料不同。本申请中减反射微结构的微结构层包括微结构阵列层，微结构阵列层包括多个微结构，微结构阵列层可以等效成具有渐变折射率梯度分布的薄膜，实现减反射效果，同时微结构阵列层的层数在两层以上，且不同微结构阵列层的材料不同，减少折射率的突变，因此可以减少发生菲涅尔反射，增强减反射微结构的减反射能力，实现更好的增透效果。本申请还提供一种具有上述优点的减反射微结构制作方法。

今年以来睿创微纳新获得专利授权3个，较去年同期增加了200%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了3.04亿元，同比增29.65%。

数据来源：企查查

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