利元亨获得实用新型专利授权：“一种转接机构及镀膜装置盖体”

证券之星消息，根据企查查数据显示利元亨（688499）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种转接机构及镀膜装置盖体”，专利申请号为CN202322345033.7，授权日为2024年2月23日。

专利摘要：本申请涉及镀膜技术领域，特别涉及一种转接机构及镀膜装置盖体。包括连接组件、设置于所述连接组件一端的压型块，所述压型块的延伸方向与所述连接组件相垂直，所述压型块远离所述连接组件的一端形成有凸起结构。进而通过压型块的凸起结构抵接于电极板上表面，进而使得电极板发生形变而使得其下表面形成曲面，实现削弱镀膜腔中间部分的磁场强度，使得磁场强度均匀，避免传统镀膜工艺中的膜层中间位置膜层厚度大于周边位置膜层厚度的情况发生，使得膜层厚度均匀，提高镀膜质量。

今年以来利元亨新获得专利授权52个，较去年同期减少了10.34%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了2.77亿元，同比增33.57%。

数据来源：企查查

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