南 玻Ａ获得发明专利授权：“硅片内除杂的方法和系统”

证券之星消息，根据企查查数据显示南 玻Ａ（000012）新获得一项发明专利授权，专利名为“硅片内除杂的方法和系统”，专利申请号为CN202210646479.0，授权日为2024年2月23日。

专利摘要：本申请公开了一种硅片内除杂的方法和系统，涉及电池技术领域。方法包括将设置有若干硅片的加工容器设置为真空状态；在处于真空状态的加工容器中通入氮气并进行升降温预处理，使得硅片内的部分杂质扩散于氮气中并与氮气混合；从加工容器中抽取出混合了杂质的氮气；在抽取氮气后的加工容器中通入氩气并进行内吸杂处理并进行清洗，得到干净的硅片。通过在真空状态下的加工容器中通入氮气并在升温降温预处理时，让硅片内杂质在受热膨胀后扩散到氮气并在抽真空时跟随氮气排出。然后通过通入氩气进行内吸杂处理，使得剩余的杂质大部分能留于硅片表面。因此，本申请实施例的方法和系统通过升降温预处理以及内吸杂两重杂质祛除，能提升硅片电池的可靠性。

今年以来南 玻Ａ新获得专利授权40个，较去年同期增加了66.67%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了3.46亿元，同比增30.23%。

数据来源：企查查

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