晶合集成获得发明专利授权：“光学邻近修正方法及系统”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“光学邻近修正方法及系统”，专利申请号为CN202311388432.X，授权日为2024年2月20日。

专利摘要：本申请涉及一种光学邻近修正方法及系统，方法包括：获取初始版图图形，其包括至少一个目标边，并在目标边沿第一方向远离初始版图图形的一侧添加散射条；其中，第一方向与目标边的延伸方向垂直，散射条的延伸方向与目标边的延伸方向相同；通过设计规则检查语法检测与初始版图图形邻接且共用目标边的目标区域内是否具有与目标边对应的散射条；若否，则检测目标区域内是否具有除了与目标边对应的散射条之外的散射条；若否，则检测离目标区域最近的散射条与目标区域的最小距离是否达到预设冲突距离；若位于预设冲突距离之内，则判定散射条的添加无遗漏；反之，则判定有遗漏。上述方法能够提高检测的准确度及光学邻近修正的效率。

今年以来晶合集成新获得专利授权30个，较去年同期增加了30.43%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了5.02亿元，同比增27.46%。

数据来源：企查查

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