晶合集成获得发明专利授权：“互连开口的形成方法以及互连结构的形成方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“互连开口的形成方法以及互连结构的形成方法”，专利申请号为CN202311516407.5，授权日为2024年2月2日。

专利摘要：本发明提供了一种互连开口的形成方法以及互连结构的形成方法，通过刻蚀碳材料层以形成占位结构，所述占位结构包括碳材料柱以及所述碳材料柱限定的容置空间；接着形成低K介质层，所述低K介质层覆盖所述占位结构外的所述基底结构以及填充所述容置空间；然后再去除所述容置空间中的所述低K介质层以及灰化去除所述碳材料柱以形成互连开口。在此，利用所述碳材料柱对于所述低K介质层的遮蔽与保护，从而在灰化去除所述碳材料柱以形成互连开口时，可以避免/减少对于所述低K介质层的伤害，形成具有较佳侧壁形貌的互连开口，提高了工艺质量与可靠性。进一步的，填充所述互连开口以形成互连结构，能够得到高质量、高可靠性的互连结构。

今年以来晶合集成新获得专利授权16个，较去年同期增加了33.33%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了5.02亿元，同比增27.46%。

数据来源：企查查

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