晶合集成获得发明专利授权：“光刻图形校准方法、装置、介质及产品”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“光刻图形校准方法、装置、介质及产品”，专利申请号为CN202311510265.1，授权日为2024年1月30日。

专利摘要：本申请涉及一种光刻图形校准方法、装置、介质及产品，光刻图形校准方法包括：获取光刻图形校准的标准阈值，标准阈值为在曝光后光刻胶损失量小于损失量阈值的情况下，获取曝光后版图的背景强度与光学临近效应标准阈值的比值；在对待校准版图进行光学临近效应修正后，获取待校准版图的校准参考量，校准参考量为背景强度与光学临近效应标准阈值的比值；在校准参考量大于标准阈值，及待校准版图的中部的光学临近效应满足光学临近效应标准阈值要求的情况下，在待校准版图的中部外围增加多个周向环绕中部的目标亚分辨率辅助图形；调节目标亚分辨率辅助图形的尺寸及/或间距，至校准参考量小于或等于标准阈值，减少外围光刻胶的损失。

今年以来晶合集成新获得专利授权11个，较去年同期增加了37.5%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了5.02亿元，同比增27.46%。

数据来源：企查查

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