证券之星消息,根据企查查数据显示利元亨(688499)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种热熔装置及包膜设备”,专利申请号为CN202320944238.4,授权日为2024年1月12日。
专利摘要:本实用新型涉及一种热熔装置及包膜设备,其中热熔装置包括定位机构和两个热熔机构,两个所述热熔机构相对设于所述定位机构的两侧,所述热熔机构包括热熔组件,至少一个所述热熔机构设有限位组件,所述限位组件配置为可沿竖直和水平方向移动,所述限位组件用于遮挡电芯的非热熔位置,以使所述热熔组件对电芯的预设位置进行热熔。本实用新型能够遮挡电芯的非热熔位置,热熔机构可采用长度与电芯相匹配的热熔件一次热熔成型,有效提高热熔效率。
今年以来利元亨新获得专利授权24个,较去年同期减少了48.94%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了2.77亿元,同比增33.57%。
数据来源:企查查
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