证券之星消息，根据企查查数据显示光华科技（002741）新获得一项发明专利授权，专利名为“蚀刻液及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202111276160.5，授权日为2024年1月2日。
专利摘要：本发明涉及一种蚀刻液及其制备方法应用，该蚀刻液包括水、氟盐、铝缓蚀剂和氧化剂；所述铝缓蚀剂的结构中含有氮原子和硼羟基，或所述铝缓蚀剂的结构中含有氮原子和硼酸频哪醇酯基。该蚀刻液能快速蚀刻腐蚀钛而对铝的腐蚀作用较小，蚀刻系数大，能够满足目前半导体晶圆封装工艺制作精细线路的制程要求，且安全可靠，对环境污染小，具有广阔的应用前景。
今年以来光华科技新获得专利授权1个。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了6511.67万元，同比减9.8%。
数据来源：企查查
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