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汇成真空：公司HiPIMS高功率脉冲磁控溅射设备在TGV深孔沉积领域具有高离化率、低占空比控制、成膜致密均匀等优势和特点

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2025-08-19 08:48:00

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（原标题：汇成真空：公司HiPIMS高功率脉冲磁控溅射设备在TGV深孔沉积领域具有高离化率、低占空比控制、成膜致密均匀等优势和特点）

同花顺（300033）金融研究中心08月19日讯，有投资者向汇成真空（301392）提问，介绍一下公司在tgv玻璃基板方面的技术！有哪些独特的优势和特点。

公司回答表示，尊敬的投资者，您好。公司HiPIMS高功率脉冲磁控溅射设备在TGV深孔沉积领域具有高离化率、低占空比控制、成膜致密均匀等优势和特点，详情请关注公司定期报告，感谢提问。

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