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国林科技：臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程

来源：同花顺iNews

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2024-12-20 16:12:01

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（原标题：国林科技：臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程）

同花顺（300033）金融研究中心12月20日讯，有投资者向国林科技（300786）提问，董秘你好，请问贵公司自研的半导体专用臭氧清洗设备可应用于哪些设备及工艺?

公司回答表示，尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程。感谢您的关注。

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