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国林科技:臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程

来源:同花顺iNews 2024-12-05 09:03:02
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(原标题:国林科技:臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程)

同花顺(300033)金融研究中心12月05日讯,有投资者向国林科技(300786)提问, 请问贵司的臭氧半导体设备验证已经有好几年了,为什么还没有验证通过?是贵司产品问题,还是中芯国际等接收贵司设备的公司自身验证安排的问题?贵司的臭氧半导体设备可以解决哪些半导体制程中卡脖子的流程,在整个半导体流程中价值量有多大?

公司回答表示,尊敬的投资者,您好。半导体行业对于设备的安全性、稳定性要求较高,验证周期较长,目前公司半导体专用臭氧清洗设备部分型号产品处于样机验证阶段,少量型号产品处于小批量订单验证阶段,待有明确验证结果公司将及时与投资者分享。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程,半导体对华出口限制势必会极大的促进行业国产化率的提升,公司会牢牢把握住国产替代的窗口期,加快推进技术迭代和市场验证,希望投资者能够给予更多的信心和耐心。感谢您的关注。

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