截至2025年9月15日收盘,聚和材料(688503)报收于64.5元,上涨0.86%,换手率13.54%,成交量24.46万手,成交额15.39亿元。
9月15日主力资金净流出9801.72万元,占总成交额6.37%;游资资金净流入8984.87万元,占总成交额5.84%;散户资金净流入816.85万元,占总成交额0.53%。
9月9日举行业绩说明会,以电话会议形式进行。
公司计划与韩投伙伴使用自有或自筹资金680亿韩元,收购SK Enpulse旗下空白掩模业务板块(包括土地、厂房、存货、设备、专利、在建工程、人员、技术等),其中聚和材料直接或间接出资比例不低于95%。
空白掩模版(Blank Mask)是掩模版的核心原材料,需在超高纯度石英基板上完成切磨抛、清洗、镀膜、光刻胶涂胶及测试等工序制成。掩模版又称光罩,是光刻工艺的图形母版,功能类似传统照相机的“底片”,每款新芯片设计均需配套一套掩模版。掩模版业务为空白掩模基板的下游环节。
SK Enpulse该业务始于2016年,2018年建成投产,原定位为内部供应为主、外部销售为辅。尽管产品已导入SK海力士体系,但未能形成规模效应,因此决定寻求外部合作以释放技术潜力。本次合作经历多方竞价,最终由聚和材料与韩投伙伴达成。
空白掩模基板生产对精度要求极高,清洗、镀膜、涂胶、测量四大环节技术难度大,其韩国生产基地洁净度达Class1水平。SKE旗下Blank Mask公司经近十年积累,在各环节具备领先技术能力,产品关键性能指标优于竞争对手,有助于提升生产效率、简化工艺控制、降低成本并提高品质。
当前主要产品适用于DUV-rF及KrF半导体光刻工艺,类型为PSM相移掩模版,已通过SK海力士、TMC、新锐光、迪思微、中微掩模等国内外客户的量产验证,并实现稳定供货。
公司近年来持续探索第二成长曲线,本次合作得益于韩投伙伴(KIP)推荐,双方已建立深度互信。公司管理层具备韩国企业背景,熟悉韩国文化,有利于后续整合。未来将依托韩投集团在韩资源,继续寻找解决国内“卡脖子”问题、具备核心价值的半导体原材料标的,推进外延式布局。具体项目待确定后另行披露。
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