截至2025年8月15日收盘，国林科技(300786)报收于16.23元，上涨2.66%，换手率7.87%，成交量11.55万手，成交额1.87亿元。
投资者： 上海麦克林化学试剂售卖的乙醛酸一水合物（晶体乙醛酸），98％纯度1kg235元，25kg3400元。按此推算，其乙醛酸一水合物1吨的价格在13.6万到23.5万之间。元丰化学试剂公司生产的高品质50％乙醛酸水溶液，售价为500g，38元。折合为1吨76000元。请问公司目前新疆国林新材料2.5万吨的98％纯度的晶体乙醛酸，或5万吨50％的乙醛酸水溶液，是否与上述产品规格一致？
董秘： 尊敬的投资者，您好。公司乙醛酸产品品质可以满足实验试剂质量标准要求。感谢您的关注。
投资者： 作为长期关注和给予贵司信任的长期投资者，对于贵司这两年的产品战线的赛道突破及贵司得到行业多家巨头客户的认可充满信心，期待早日能在新赛道和国产替代机遇中得到重大质变。公司下半年的订单状态是否达到预期？谢谢！
董秘： 尊敬的投资者，您好。非常感谢您对公司的信任，公司将秉持稳健的发展策略，持续深化对国内国际市场的耕耘，加快推动国产化进程及技术创新步伐；具体经营情况请您关注公司定期报告。感谢您的关注。
投资者： 公司的业务布局里，新疆是重要的战略部分对吗？具体是什么？
董秘： 尊敬的投资者，您好。2024年，子公司新疆国林所生产的乙醛酸及其副产品实现营业收入10,605.25万元，占公司营业收入比重40.98%，化工业务是公司在臭氧技术的应用领域的新探索。感谢您的关注。
投资者： 公司旗下国林新材料公司，是属于新疆石河子地区的振兴新疆的投资项目吗？能否具体介绍一下公司参与助推新疆振兴的情况？
董秘： 尊敬的投资者，您好。不属于。感谢您的关注。
投资者： 公司及子公司是否有享受西部大开发政策的税收优惠？公司是否有参与西部大开发经济产业建设中？
董秘： 尊敬的投资者，您好。新疆国林新材料有限公司目前享受西部大开发企业所得税优惠。感谢您的关注。
投资者： 公司子公司国林新材料官网显示，公司可制备99％纯度的乙醛酸，是否属实？
董秘： 尊敬的投资者，您好。公司生产的乙醛酸一水化合物合格品浓度≥98%，优级品浓度≥ 98.5%，公司可对产品进一步提纯以满足不同客户需求。感谢您的关注。
投资者： 公司是否有销售晶体乙醛酸实验试剂？一般这种98％纯度的晶体乙醛酸实验试剂价格是常规晶体乙醛酸价格的4-5倍。一般25kg，就是3000-4000元。请问公司有生产销售此类高价值乙醛酸一水合物（晶体乙醛酸）实验试剂吗？
董秘： 尊敬的投资者，您好。公司乙醛酸产品品质可以满足实验试剂质量标准要求。感谢您的关注。
投资者： 公司在商业航天领域的产品应用具体是什么？
董秘： 尊敬的投资者，您好。类似问题已回复，请您参考相关回复和公司公告。感谢您的关注。
投资者： 为什么商业航天火箭发射助推剂废液处理需要用到公司产品技术，其原理是什么？
董秘： 尊敬的投资者，您好。废水处理主要是利用臭氧的强氧化性，将水体中的大分子有机物氧化为小分子有机物，增强有机物的可生物降解性，提高处理工艺净化效率。感谢您的关注。
投资者： 公司的半导体臭氧设备是否能满足并适用于半导体SPM、HDC、APM、HPM制程？
董秘： 尊敬的投资者，您好。可以满足。感谢您的关注。
投资者： 公司跟国产光刻胶客户有合作联系吗？就针对光刻胶臭氧清洗这块？
董秘： 尊敬的投资者，您好。子公司国林半导体目前主要下游客户群体为半导体、光伏、面板等领域。感谢您的关注。
投资者： 公司意向性及在手半导体设备订单充足吗？
董秘： 尊敬的投资者，您好。公司一直在持续开拓半导体领域新客户，半导体领域业务将根据客户验证情况逐步放量，具体经营情况请您关注公司定期报告。感谢您的关注。
投资者： 公司能否专注于高利润的半导体设备的研发与经营？放弃不赚钱的乙醛酸和传统臭氧设备？彻底转型为半导体设备企业？
董秘： 尊敬的投资者，您好。感谢您的建议。
投资者： 公司是否为商业航天火箭推进剂处理提供技术产品？火箭推进剂处理有哪些技术门槛要求？
董秘： 尊敬的投资者，您好。类似问题已回复，请您参考相关回复和公司公告。感谢您的关注。
投资者： 公司的半导体臭氧设备能否对提升国产晶圆及芯片的良率提供帮助？具体提高良率的原理是什么？
董秘： 尊敬的投资者，您好。公司自主研发的半导体专用臭氧系统设备具备高浓度、高精度、高纯度及高稳定性的技术特点。在晶圆清洗环节，臭氧水可高效去除表面有机污染物和金属杂质，避免残留物导致的电路短路或性能缺陷，臭氧气体发生器在氧化工艺中形成均匀致密的氧化层，提升器件电性能，可以有效提升产品良率。感谢您的关注。
投资者： 公司有在国产duv和euv光刻路径的芯片制造产线上进行产品配套验证吗？何时公布验证情况？是否涉及保密？
董秘： 尊敬的投资者，您好。公司正在积极开拓相关领域客户，目前还未有实际应用业绩。感谢您的关注。
投资者： 公司目前的半导体产品设备有生产出哪些半导体特种气体？
董秘： 尊敬的投资者，您好。公司目前可提供“臭氧水发生器、氨水发生器、二氧化碳水发生器”等类型的机能水设备及臭氧气体发生器，可应用于半导体行业各品类的先进＆前沿制程中。感谢您的关注。
投资者： 目前国内商业航天发射进入高频期，经查阅资料，发现火箭试车及发射时，会产生大量的助推剂废水需要处理。请问目前，公司的臭氧法处理火箭助推剂，是比较好的选择吗？其优点在哪？目前公司的火箭客户还在使用公司的产品技术吗？
董秘： 尊敬的投资者，您好。火箭试车及发射过程中会产生大量废水，这类废水具有剧毒、成分复杂、致癌性强等特点，利用臭氧的强氧化性，可将水体中的大分子有机物氧化为小分子有机物，增强有机物的可生物降解性，提高处理工艺净化效率。臭氧氧化技术因其独特的优势，已成为处理火箭推进剂废水的重要方法之一。感谢您的关注。
投资者： 公司半导体设备产生的半导体级气体（臭氧、二氧化碳、氨气）能达到多少N的纯度？
董秘： 尊敬的投资者，您好。半导体设备产生的半导体级气体（臭氧、二氧化碳、氨气）无法用纯度标定，只能以洁净度或者浓度指标参数来描述。感谢您的关注。
投资者： 公司子公司国林半导体获北京集成电路装备产业投资并购基金投资持股20％，其背后的出资方有京东方、也有北方华创，请问这是否代表了北京集成电路投资对咱们国林半导体的技术与发展前景的认可？也可以代表北京半导体产业对国林半导体的重视？请问这有助于公司的业务开展吗？
董秘： 尊敬的投资者，您好。公司一直在持续开拓半导体领域新客户，半导体领域业务将根据客户验证情况逐步放量，具体经营情况请您关注公司定期报告。感谢您的关注。
投资者： EUV（极紫外光）掩膜版清洗和euv光刻胶清洗都已经开始采用先进的臭氧水清洗方式，以替代传统的rca清洗。请问euv掩膜板清洗和euv光刻胶清洗从技术原理上，对臭氧水设备的性能要求有何不同？需要达到怎样的性能？
董秘： 尊敬的投资者，您好。臭氧浓度和臭氧流量不同，其余无区别。感谢您的关注。
投资者： 目前臭氧水清洗成为3nm以下先进制程的优选方案。目前国际东京电子（TEL）实验显示，臭氧水对EUV 光刻胶的去除率比硫酸﹣双氧水混合液(SPM）高20%，且无硫残留。台积电在3nm制程中采用臭氧水预处理，使晶圆缺陷密度降低15%。ASML的混合工艺：臭氧水+兆声波（Megasonic）协同清洗，减少物理损伤。请问公司是否了解上述行业发展？公司能否介绍一下臭氧水在3nm以下制程的优势？
董秘： 尊敬的投资者，您好。臭氧水在3nm及以下先进制程中的优势主要体现在其高氧化性、清洁效率和环保特性上，能够满足半导体制造对精度、缺陷控制和材料兼容性的严苛要求。感谢您的关注。
投资者： pcn印刷电路板，在焊接、组装等工艺后，表面可能会残留助焊剂、油污等。臭氧可以快速有效清洗这些污物。请问公司的臭氧设备能否满足pcb印刷电路板的清洗？
董秘： 尊敬的投资者，您好。国林半导体现有产品具备广泛的应用适应性，能够满足各类场合中臭氧清洗的需求。感谢您的关注。
投资者： 公司正在开发紫外-臭氧联用设备，可分解光刻胶显影后的有机残留物，清洗效率比传统工艺提升40%。以及正在研发EUV光刻胶生产用的高纯度臭氧气体纯化系统，金属杂质含量<0.1ppt。以上信息是否属实？
董秘： 尊敬的投资者，您好。公司现有半导体专用臭氧系统设备可以满足工艺应用，具体产品研发情况请您以公司于指定信息披露媒体刊登的公告为准。感谢您的关注。
投资者： 相比传统等离子蚀刻，臭氧蚀刻对基材损伤更小，适用于高精度图形化工艺。减少热应力，避免第三代半导体材料（如碳化硅）因高温导致的晶格缺陷。公司到底有没有蚀刻工艺的臭氧设备？能否用于第三代半导体制造？
董秘： 尊敬的投资者，您好。公司现有半导体专用臭氧系统设备可以应用于蚀刻工艺、第三代半导体生产工艺。感谢您的关注。
投资者： 某国内半导体臭氧设备厂商宣称其设备产生的超纯臭氧气体纯度达99.9995%，即5N水准。请问公司的臭氧设备能产生的半导体级超纯臭氧气体纯度为多少？二氧化碳设备产生的半导体级二氧化碳气体纯度为多少？
董秘： 尊敬的投资者，您好。纯度指的是浓度，用mg/L单位来表示。99.9995%属于描述不符。感谢您的关注。
投资者： 美国mks官网上显示其最先进的半导体臭氧发生器产生的臭氧纯度为99.9995％，即6N水准。该产品已用于台积电3nm芯片生产线。请问公司的同类型半导体臭氧发生器的臭氧纯度为多少？是多少N的水准？能否达到同样3nm芯片生产的要求？
董秘： 尊敬的投资者，您好。纯度指的是浓度，用mg/L单位来表示，99.9995%属于描述不符。感谢您的关注。
投资者： 恭喜公司顺利复产，请问公司停产期间，是否将晶体乙醛酸库存处理完毕？做到轻装上阵？
董秘： 尊敬的投资者，您好。具体经营情况请您关注公司定期报告。感谢您的关注。
投资者： 公司在2024年报中提到公司的半导体设备已经在国内晶圆芯片终端（fab）厂正式投入使用，请问是否属实？是国内头部的fab厂吗？
董秘： 尊敬的投资者，您好。公司相关情况请您以公司于指定信息披露媒体刊登的公告为准。感谢您的关注。
8月15日，国林科技的资金流向显示主力资金净流出509.33万元；游资资金净流出983.12万元；相比之下，散户资金则呈现净流入状态，金额为1492.46万元。
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