广立微获得发明专利授权：“一种生成SDB隔离效果测试结构的方法及测试结构”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示广立微（301095）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种生成SDB隔离效果测试结构的方法及测试结构”，专利申请号为CN202110184689.8，授权日为2025年2月28日。

专利摘要：本发明提供了一种生成SDB隔离效果测试结构的方法，包括：获取版图信息，并在版图中确定测试区域；在测试区域内识别出第一M0A；将第一SDB及其接触的第一M0A的组合记为SDBseed1_cluster，并将所述SDBseed1_cluster中包含两个第一M0A的组合识别为测试单元；第一M0A上铺设对应的M1，生成条状的梳齿，所述梳齿包括交错间隔设置的第一梳齿和第二梳齿；将第一梳齿组成第一梳状结构，将第二梳齿组成第二梳状结构；将第一梳状结构和第二梳状结构分别连到不同的测试端，用于对测试单元内的SDB隔离效果进行测试。步骤简洁，能够适用于各种实际设计中测试SDB的隔离效果。本发明提供的测试结构具有本发明的方法生成的结构而具有相应优势。

今年以来广立微新获得专利授权15个，较去年同期增加了400%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.32亿元，同比增41.77%。

数据来源：天眼查APP

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