埃科光电获得发明专利授权：“用于相机校准的均匀光源平台、不均匀性测量、校正方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示埃科光电（688610）新获得一项发明专利授权，专利名为“用于相机校准的均匀光源平台、不均匀性测量、校正方法”，专利申请号为CN202210604548.1，授权日为2025年2月21日。

专利摘要：本发明的一种用于相机校准的均匀光源平台、不均匀性测量、校正方法，均匀光源平台包括积分球、遮光箱体；积分球的出光口连接遮光箱体的入光口，积分球的检测口连接照度传感器，遮光箱体内设置有多个挡板，遮光箱体内的多个挡板分别与遮光箱体入光口、遮光箱体出光口相互平行；被测相机位于在遮光箱体出光口处，遮光箱体出光口与被测相机的最大感光面尺寸配合。本发明提供的均匀光源装置结构简单，成本低，通过特殊挡板的设计，解决了遮光箱体内壁反射光的问题，实现了光源的均匀性。本发明提供的相机平场校正方法，结合均匀光源装置，实现了对每个像素的响应一致性进行校正。

今年以来埃科光电新获得专利授权2个，较去年同期减少了60%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了2192.92万元，同比增62.51%。

数据来源：天眼查APP

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