天合光能获得实用新型专利授权：“双面激光转印膜、开槽模具以及激光转印系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示天合光能（688599）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“双面激光转印膜、开槽模具以及激光转印系统”，专利申请号为CN202421178574.3，授权日为2025年2月7日。

专利摘要：本申请涉及一种双面激光转印膜、开槽模具以及激光转印系统，转印膜具有位置相对的第一面和第二面，所述第一面上具有多个第一凹槽，所述第二面上具有多个第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽内分别用于填充料浆。第一面上具有多个第一凹槽，第二面上具有多个第二凹槽，在实际使用时，首先在第一凹槽内填充料浆，然后将第一凹槽内的料浆激光转印至电池片上，以形成栅线；再在第二凹槽内填充料浆，然后将第二凹槽内的料浆激光转印至电池片上，以形成栅线。即第一凹槽和第二凹槽的设置能够增加转印膜的使用次数，从而降低转印膜的成本。

今年以来天合光能新获得专利授权41个，较去年同期减少了34.92%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了8.44亿元，同比增3.2%。

数据来源：天眼查APP

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