证券之星消息，根据天眼查APP数据显示广立微（301095）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种识别光刻有源区热点及其中晶体管的方法”，专利申请号为CN202110184688.3，授权日为2025年2月7日。
专利摘要：本发明提供了一种识别光刻有源区热点的方法，包括:获取版图信息；定义初始边；将有源区图形中除去与栅极图形重叠区域后剩余的矩形区域识别为第一矩形，识别与所述第一短边接触的第一矩形为L型不规则有源区，即光刻有源区热点。本发明还提供了一种识别光刻有源区中晶体管的方法，采用本发明的方法识别出的光刻有源区热点，能够识别并获取光刻有源区中晶体管的属性信息，过程简洁，结果直观，有利于生产工艺的改进和效率提高。
今年以来广立微新获得专利授权6个，较去年同期增加了200%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.32亿元，同比增41.77%。
数据来源：天眼查APP
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