广立微获得发明专利授权：“集成电路后仿真版图生成方法、装置和可读存储介质”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示广立微（301095）新获得一项发明专利授权，专利名为“集成电路后仿真版图生成方法、装置和可读存储介质”，专利申请号为CN202411079938.7，授权日为2025年1月3日。

专利摘要：本申请涉及一种集成电路后仿真版图生成方法、装置和可读存储介质，其中，该集成电路后仿真版图生成方法包括：通过获取原始版图，确定原始版图中的目标器件；获取原始版图中目标器件的每个引脚的绕线结构，并根据绕线结构生成第一版图文件；获取原始版图中包含目标器件所有引脚的前中段层在内的目标区域，根据目标区域生成第二版图文件；将第一版图文件和第二版图文件进行合并，得到目标器件的后仿真版图，通过本申请，解决了在后仿真过程中由于获取的金属走线不全导致后仿真精度低，以及后仿真参数网表提取效率低，提高了后仿真精度和后仿真参数网表的提取效率。

今年以来广立微新获得专利授权1个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.32亿元，同比增41.77%。