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天合光能获得实用新型专利授权：“掩膜装置”

来源：证券之星企业动态 2024-12-13 02:08:18

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示天合光能（688599）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“掩膜装置”，专利申请号为CN202420235068.7，授权日为2024年12月13日。

专利摘要：本申请涉及一种掩膜装置，包括掩膜板，以及能够盖合于所述掩膜板之上的盖板；所述掩膜板设置有至少一个镂空区域，每个所述镂空区域用于放置一个基片；所述盖板在靠近所述镂空区域一侧，对应于每个所述镂空区域的位置处，分别设置有凸出于所述盖板的第一凸出结构，所述盖板和所述掩膜板盖合后，所述第一凸出结构抵压所述基片。在气相沉积工艺中，掩膜装置能够有效防止基片被蒸汽冲击导致移位，有利于提高气相沉积效果。

今年以来天合光能新获得专利授权445个，较去年同期增加了83.88%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了8.44亿元，同比增3.2%。

数据来源：天眼查APP

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