京东方Ａ获得发明专利授权：“阵列基板及其制作方法、液晶显示面板以及显示装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“阵列基板及其制作方法、液晶显示面板以及显示装置”，专利申请号为CN202110582280.1，授权日为2024年11月19日。

专利摘要：本发明实施例公开一种阵列基板及其制作方法、液晶显示面板以及显示装置。在一具体实施例中，制作方法包括：在栅极绝缘层上形成有源层薄膜和源漏电极层薄膜；在源漏电极层薄膜上形成光刻胶，包括完全保留区域和部分保留区域；进行第一次湿法刻蚀，得到第一源漏电极层薄膜；对光刻胶进行灰化处理，使完全保留区域在衬底上的正投影与第一源漏电极层薄膜在衬底上的正投影边缘重合；对有源层薄膜进行第一次干法刻蚀，露出栅极绝缘层；进行第二次湿法刻蚀；去除完全保留区域；以及有源层薄膜进行第二次干法刻蚀。该实施例的制作方法在2W2D工艺中先对光刻胶进行灰化处理再第一次干法刻蚀，并在去除光刻胶后再进行第二次干法刻蚀，降低了有源区拖尾。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2901个，较去年同期增加了0.62%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了58.06亿元，同比增10.24%。

数据来源：天眼查APP

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