利元亨获得实用新型专利授权：“一种阴极靶结构及镀膜设备”

证券之星消息，根据企查查数据显示利元亨（688499）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种阴极靶结构及镀膜设备”，专利申请号为CN202321030876.1，授权日为2024年5月17日。

专利摘要：本实用新型公开了一种阴极靶结构及镀膜设备，涉及镀膜设备技术领域，其中，阴极靶结构包括：基座；阴极靶本体，安装于所述基座；靶罩，设置于所述阴极靶本体的一侧，所述靶罩能够绕所述阴极靶本体的周向转动；旋转驱动机构，用于驱动所述靶罩转动。洗靶时，靶罩转动至阴极靶本体的溅射区域，靶罩用于遮挡溅射区域，使得洗靶时溅射出来的溅射粒子全部溅射到靶罩上，以此来减少溅射粒子溅射到镀膜腔体内衬板上，能够有效减少溅射粒子在内衬板上膜层的沉积，利于延长内衬板的使用周期，减少内衬板的更换频次。内衬板的更换频次减少，利于使PVD镀膜时工艺腔的气氛保持相对稳定，从而利于保证镀膜工艺的稳定性。

今年以来利元亨新获得专利授权101个，较去年同期减少了38.04%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了5.17亿元，同比增9.81%。

数据来源：企查查

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