广立微获得外观设计专利授权：“带晶圆良率分析图形用户界面的计算机显示屏”

证券之星消息，根据企查查数据显示广立微（301095）新获得一项外观设计专利授权，专利名为“带晶圆良率分析图形用户界面的计算机显示屏”，专利申请号为CN202330245160.2，授权日为2024年3月22日。

专利摘要：1.本外观设计产品的名称：带晶圆良率分析图形用户界面的计算机显示屏。2.本外观设计产品的用途：用于显示图形用户界面。3.本外观设计产品的设计要点：在于屏幕中的图形用户界面。4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1变化状态图1。5.计算机显示屏为惯常设计，省略其他视图。6.指定设计1为基本设计。7.图形用户界面的用途：本外观设计产品用于查看晶圆良率、良率损失情况、相关联测试数据或良率相关因素数据，包括根据时间、产品、测试类型等数据维度的数据筛选、整体良率展示、多种良率损失根源、其他测试类型数据展示、不同数据维度下良率影响项的数据展示，特别包括与测试相关的良率损失项的数据展示，综合各方面数据统计良率与相关数据，可快速判断影响良率的具体方面以实现良率分析的快速切入；界面交互过程：设计1主视图左侧为支持各数据维度筛选的操作栏，右侧上方为良率与良率损失根源“loss type1”，右侧下方为关联测试数据“Test Loss Type 1”和良率相关因素数据“Impact Type 1”；设计1变化状态图1：在设计1主视图的基础上，选择左侧操作栏中的“DataTime或LoadTime”的时间段后，再依次选择“ProductID、ProductFamily、TestType”中的数据，最后点击左侧操作栏中“Query”生成设计1变化状态图1；设计1变化状态图2：在设计1变化状态图1的基础上，点击右侧上方位置的良率损失根源“loss type”可跳出一数据分析页面，数据分析页面可为各种适用半导体数据的分析图标，如设计1变化状态图2中的柱状图或折线图；设计1变化状态图3：在设计1变化状态图2的基础上，点击数据分析页面右上角的“X”可关闭数据分析页面，点击右侧下方位置的“more”按钮可跳出一数据分析页面，数据分析页面可为各种适用半导体数据的分析图表，如设计1变化状态图3中的统计数据列表和散点图。设计2各变化状态图至设计4各变化状态图的交互方式和用途与设计1各变化状态图均相似，区别仅在于设计2各变化状态图在右侧上方的良率损失根源“loss type”和测试相关的良率损失项均增加展示部分统计数据；设计3各变化状态图在良率损失根源“loss type”、测试相关的良率损失项、良率相关因素数据均增加了一组，表明根据需要此三部分内容可添加组数，不局限于一组；设计4各变化状态图是在设计3变化状态图2的基础上，在右侧上方的良率损失根源“loss type”和测试相关的良率损失项均增加展示部分统计数据。

今年以来广立微新获得专利授权8个，较去年同期增加了33.33%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了9313.46万元，同比增98.72%。

数据来源：企查查

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