埃科光电获得发明专利授权：“线光谱共聚焦高精度标定方法、系统、设备及存储介质”

证券之星消息，根据企查查数据显示埃科光电（688610）新获得一项发明专利授权，专利名为“线光谱共聚焦高精度标定方法、系统、设备及存储介质”，专利申请号为CN202311202660.3，授权日为2024年3月19日。

专利摘要：本发明公开了一种线光谱共聚焦高精度标定方法、系统、设备及存储介质，该方法包括以下步骤：采集标定物反馈的光谱中心点，拟合成合集曲线方程；取任一光谱中心点坐标，带入合集曲线方程，输出与实际坐标差值小于第一阈值且光谱中心点个数大于第二阈值的坐标集合，拟合成新曲线方程；选取包含光谱中心点个数最多的坐标集合对应的新曲线方程，根据该新曲线方程或特征点坐标与真实坐标的对应关系，计算线光谱共聚焦的标定参数。本发明通过对光谱分布图像中像素坐标的曲线方程优化，有效提高了曲线方程拟合的准确度；通过建立空间点与像素点之间的一一对应关系，完成像素点到空间点的转换，从而实现线光谱共焦系统的标定。

今年以来埃科光电新获得专利授权13个，较去年同期增加了225%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了1349.39万元，同比增8.2%。

数据来源：企查查

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