证券之星消息，根据企查查数据显示天合光能（688599）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种低压扩散炉”，专利申请号为CN202321576389.5，授权日为2024年1月9日。
专利摘要：本申请提供了一种低压扩散炉，包括：石英管，设有炉门；排气件，连接于所述石英管端部，并与所述石英管内部连通；进气管，与所述石英管内部连通，且所述进气管位于所述石英管内的端口位于远离所述排气件的一端；石英舟，设置于所述石英管内，用于承载硅片；多个喷气件，用于向所述石英管内通入气体，多个喷气件沿石英管延伸方向间隔布设。在上述技术方案中，通过设置的多个喷气件，在石英管中部区域向石英管内通入反应气体，对石英舟上各个部位处的硅片进行扩散的效果较为均匀，即硅片的方阻更加均匀，提升硅片质量。
今年以来天合光能新获得专利授权23个，较去年同期增加了35.29%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了8.18亿元，同比增30.98%。
数据来源：企查查
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