中微公司获得实用新型专利授权：“一种用于半导体处理腔的上盖”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种用于半导体处理腔的上盖”，专利申请号为CN202320150480.4，授权日为2023年12月29日。

专利摘要：本实用新型提供了一种用于半导体处理腔的上盖，所述上盖包括：窗口和环绕窗口的外沿，窗口包括窗口中心区和包围窗口中心区的窗口边缘区，窗口边缘区与外沿连接，窗口边缘区的上表面位于外沿的上下表面之间，外沿与窗口边缘区的上表面之间构成第一凹部，所述外沿具有向窗口倾斜的第一侧壁，窗口边缘区的上表面具有第一弧面，第一弧面与第一侧壁连接，所述上盖可承受其内外的压强差。所述上盖既能够保证半导体处理腔内气流的稳定性，又能够承受其内外的压强差。

今年以来中微公司新获得专利授权152个，较去年同期增加了237.78%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了2.92亿元，同比减3.77%。

数据来源：企查查

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