证券之星消息,根据企查查数据显示万华化学(600309)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种脱卤剂、制备甲苯二异氰酸酯和甲苯二异氰酸酯三聚体的方法”,专利申请号为CN202111611451.5,授权日为2023年12月19日。
专利摘要:本发明公开一种脱卤剂、制备甲苯二异氰酸酯和甲苯二异氰酸酯三聚体的方法。所述脱卤剂,是包含具有双键基团的异硫氰酸酯和含有双键的其它共聚单体进行共聚制备;或者,是包含具有双键基团的一硫氰酸酯和含有双键的其它共聚单体进行共聚后,与高分子树脂接枝共聚制备。所述的脱卤剂中,异硫氰酸酯基团的含量为1?30wt%。使用该脱卤剂对含有N?甲基苯基酰氯、二氯亚胺和氯代溴代甲苯二异氰酸酯的甲苯二异氰酸酯原料进行处理,能够得到降低卤代有机杂质含量的甲苯二异氰酸酯,能够制备更低色度的甲苯二异氰酸酯三聚体。
今年以来万华化学新获得专利授权1630个,较去年同期增加了14.15%。结合公司2023年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了17.91亿元,同比增17.06%。
数据来源:企查查
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