晶合集成获得发明专利授权：“一种图像传感器及其制造方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种图像传感器及其制造方法”，专利申请号为CN202311056576.5，授权日为2023年11月28日。

专利摘要：本发明公开了一种图像传感器及其制造方法，所述图像传感器至少包括：逻辑基板；像素层，连接于所述逻辑基板，所述像素层中设置有多个深沟槽隔离结构；多个光电反应区，阵列分布在所述像素层中，且所述光电反应区设置在相邻的所述深沟槽隔离结构之间；氧化层，设置在所述像素层上；以及防反射结构，覆盖在所述氧化层上，所述防反射结构分布在相邻的所述深沟槽隔离结构之间，且所述防反射结构覆盖所述光电反应区，其中，所述防反射结构、所述氧化层和所述光电反应区沿着光线的入射方向依次排布。本发明提供了一种图像传感器及其制造方法，能够提升图像传感器的成像效果。

今年以来晶合集成新获得专利授权229个，较去年同期增加了90.83%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了5.02亿元，同比增27.46%。

数据来源：企查查

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