证券之星消息,根据企查查数据显示欣旺达(300207)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“绝缘片及电池”,专利申请号为CN202321617905.4,授权日为2023年12月1日。
专利摘要:本申请实施例提供了一种绝缘片及电池,涉及电池技术领域,其中,所述绝缘片包括沿其长度方向依次连接的第一覆盖部、衔接部和第二覆盖部,在与所述长度方向垂直的方向上,所述衔接部包括相互背离的第一侧部和第二侧部,所述第一侧部相对所述第一覆盖部和所述第二覆盖部一侧凹陷,所述第二侧部相对所述第一覆盖部和第二覆盖部的另一侧凹陷;所述第一覆盖部用于粘接于圆柱电池的电极壳的周向侧壁,所述第二覆盖部用于粘接于圆柱电池的电极盖。
今年以来欣旺达新获得专利授权67个,较去年同期增加了179.17%。结合公司2023年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了12.61亿元,同比增5.54%。
数据来源:企查查
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