晶合集成新获得发明专利授权：“一种半导体结构及其制作方法”_股票频道

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种半导体结构及其制作方法”，专利申请号为CN202310796749.0，授权日为2023年11月28日。

专利摘要：本发明公开了一种半导体结构及其制作方法，属于半导体制造技术领域。所述半导体结构至少包括：半导体层；铝金属层，形成在所述半导体层上，且所述铝金属层表面形成有多个凸部；以及反应层，设置在所述铝金属层上，所述反应层覆盖所述凸部，且在经过退火后，所述反应层与所述铝金属层反应，形成融合层。通过本发明提供的一种半导体结构及其制作方法，可提高半导体结构的性能。

今年以来晶合集成新获得专利授权205个，较去年同期增加了81.42%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了5.02亿元，同比增27.46%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成，与本站立场无关。证券之星力求但不保证该信息（包括但不限于文字、视频、音频、数据及图表）全部或者部分内容的的准确性、完整性、有效性、及时性等，如存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。

证券之星微信

扫描二维码

关注

证券之星微信