(原标题:国林科技:公司现有半导体专用臭氧系统设备可以满足工艺应用)
同花顺(300033)金融研究中心08月15日讯,有投资者向国林科技(300786)提问, 公司正在开发紫外-臭氧联用设备,可分解光刻胶显影后的有机残留物,清洗效率比传统工艺提升40%。以及正在研发EUV光刻胶生产用的高纯度臭氧气体纯化系统,金属杂质含量
公司回答表示,尊敬的投资者,您好。公司现有半导体专用臭氧系统设备可以满足工艺应用,具体产品研发情况请您以公司于指定信息披露媒体刊登的公告为准。感谢您的关注。
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