光刻机概念大幅拉升，蓝英装备、新莱应材涨停，茂莱光学等大涨

（原标题：光刻机概念大幅拉升，蓝英装备、新莱应材涨停，茂莱光学等大涨）

光刻机概念29日盘中强势拉升，截至发稿，蓝英装备、新莱应材、福晶科技等涨停，扬帆新材、强力新材、茂莱光学涨超10%。

光刻胶概念亦走强，容大感光涨超10%，上海新阳涨逾9%，南大光电、彤程新材等涨超6%。

容大感光近日在投资者互动平台表示，公司的光刻胶产品包括PCB光刻胶、显示用光刻胶、半导体用光刻胶等，公司PCB光刻胶所需原材料已经国产化，显示用及半导体光刻胶有部分原材料需要进口，若被限制采购，公司将使用替代方案保证供应链的安全。

公司目前正在建设珠海光刻胶及其配套化学品新建项目，预计项目达产后将会新增1.2亿平米感光干膜及1.53万吨显示用光刻胶/半导体光刻胶的产能，可以缓解目前公司产能的压力，该项目的建设完成及投产对公司的发展将具有长远的积极意义。

彤程新材日前表示，ARF光刻胶验证进展顺利，预计今年上半年完成验证并出货。

南大光电近日称，公司多款光刻胶产品正在下游主要客户处验证。前期通过验证的产品有少量出货，尚未形成规模量产。

对于光刻机，平安证券指出，光刻机是半导体制造的核心设备，其性能直接决定了芯片的工艺水平，开发难度大，价值量高，市场规模可观，目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类；分辨率、套刻精度、产率是光刻机的核心指标，其中，分辨率直接决定制程，极致的分辨率水平是光刻机产业不懈的追求，是光刻机最重要的指标，而套刻精度影响良率，产率影响光刻机的产能及经济性，此外，多重曝光技术可在光刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯片制程，应用较为广泛。

该机构表示，光刻机是半导体产业的核心设备，直接决定芯片制程的先进程度，重要性不言而喻，在全球半导体产业持续扩张的趋势下，光刻机市场规模长期可观；此外，光刻机开发难度大，产业垄断性强，是海外对华半导体制裁的重灾区，直接影响国内半导体产业先进制程的发展，因此光刻机自主突破的重要性尤为凸显，光刻机国产产业链颇具潜力，建议关注炬光科技、茂莱光学、晶方科技、福晶科技、波长光电、腾景科技等。

校对：冉燕青