公司设备是否可以应用于第三代半导体GaN（氮化镓）领域？

答捷佳伟创：2026-09-07 17:04:47

您好! 公司子公司创微微电子专注集成电路湿法工艺设备研发生产。产品覆盖6–12英寸批式及单晶圆刻蚀/清洗、光掩膜石英衬底与光掩膜版清洗、光学玻璃清洗等，服务晶圆制造、第三代半导体（SiC/GaN）、硅基功率器件、光掩膜及先进封装领域，提供“工艺+设备+服务”整厂一体化交付。谢谢！