请问公司PSM 相移掩膜版（Phase Shift Mask)，是光刻工艺中的关键材料，公司是否己2突破的单层衰减型 PSM 和 Mosi 系双层 PSM 制造技术，可应用于G6及以下平板显示掩膜版以及半导体掩膜版？实现实现 G6、G8.5 TFT-Array 用单层衰减型PSM 客户导入及量产？实现 i-line 半导体PSM 客户导入？烦请科普并正面回复下，多互动交流，谢谢

答路维光电：2026-08-13 16:32:00

尊敬的投资者您好！在相移掩膜版PSM领域，公司于2021年完成衰减型相移掩膜版(ATT PSM)工艺技术研发并通过内部测试，2023年量产Metal Mesh用PSM掩膜版，CF用PSM产品于2024年通过客户验证并量产，2024年完成单层衰减型PSM掩膜版制造技术及Mosi系双层PSM掩膜版制造技术研发；2025年实现G6、G8.5 TFT-Array用单层衰减型PSM客户导入及量产，实现i-line的半导体PSM客户导入。后续进展请关注公司公告。感谢您的关注，祝您生活愉快！