先进制程清洗领域，兆声波专利技术目前看是绕不开的，请问贵公司有何规划实现突围。谢谢。

答至纯科技：2026-06-12 15:55:00

您好，公司重视技术创新与研发投入，专注于半导体湿法清洗设备的迭代升级。当前，公司湿法设备产品已开发四大技术平台，覆盖湿法几乎全部工艺节点。最新研发的S300D设备支持12英寸晶圆制造，可覆盖至14纳米及以下制程节点以满足先进工艺要求，同时，公司持续推进“工艺-设备-材料”三位一体发展战略，积极响应国内头部客户在先进制程领域的技术需求，不断提升国产化替代能力。