• 投资者提问 2026-06-02 15:00:00

    来源:e互动

    公司每年研发投入如此巨大,请问公司目前有在研的新设备么

    至纯科技:2026-06-03 16:13:00

    您好,公司始终高度重视研发创新,持续投入研发资源,专注于半导体湿法清洗设备的迭代与升级,公司湿法设备产品已成功开发了四大技术平台,覆盖湿法几乎全部工艺节点公司单片式湿法清洗设备S300经认定获得“专利密集型产品认定证书”;公司12英寸集成电路单片式高温硫酸清洗设备质量攻关项目经评定,获上海市重点产品质量攻关成果二等奖;公司最新研发的S300D设备,支持12英寸晶圆制造,可覆盖至14纳米及以下制程,可满足先进工艺要求。公司的研发投入基于客户需求及公司“工艺-设备-材料”三位一体战略布局,旨在提升国产化替代能力

    标签

    设备研发
    湿法设备平台
    S300D设备
    专利成果
    国产化替代

    属性

    中性
    内容详尽
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