武汉凡谷获得实用新型专利授权：“一种交叉耦合结构”

证券之星消息，根据企查查数据显示武汉凡谷（002194）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种交叉耦合结构”，专利申请号为CN202322760785.X，授权日为2024年6月28日。

专利摘要：本实用新型提供了一种交叉耦合结构，包括腔体和盖板，所述腔体内设有至少两个谐振杆，相邻两个谐振杆之间设有耦合窗口，耦合窗口上安装有飞杆调节组件，飞杆调节组件包括飞杆座和调节螺杆，飞杆座固定安装于耦合窗口上，飞杆座顶部设有螺纹孔，盖板上设有供调节螺杆穿过的光孔，盖板上表面设有与调节螺杆相配合的螺母，盖板与螺母之间设有弹性垫圈，弹性垫圈套装于调节螺杆上。该实用新型采用飞杆座与螺母夹紧盖板的方式形成固定结构，设计调节螺杆与飞杆座螺纹连接进行调试，并且利用弹性垫圈在调试过程中提供电气导通和盖板防护作用，从而盖板上只需做光孔方便调节螺杆穿入即可，解决了现有薄盖板或复合板上设置螺纹长度不足的问题。

今年以来武汉凡谷新获得专利授权20个，较去年同期增加了233.33%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了1.33亿元，同比增6.96%。

数据来源：企查查

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