证券之星消息,根据企查查数据显示天合光能(688599)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种涂层液及其制备方法和应用”,专利申请号为CN202110662261.X,授权日为2024年6月7日。
专利摘要:本发明涉及一种涂层液及其制备方法和应用,所述涂层液包括如下组分:液态硅树脂、乙烯基硅油、催化剂和有机溶剂。本发明所述涂层液,以液态硅树脂为乙烯基硅油的载体,利用有机硅低表面能物理特性,完成网版在更窄线宽印刷过程中不易被堵网,达到窄线宽印刷,实现降低正银单耗和提升电池极片效率的目的。
今年以来天合光能新获得专利授权205个,较去年同期增加了177.03%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了15.43亿元,同比增26.42%。
数据来源:企查查
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