天合光能获得实用新型专利授权：“水冷屏结构和单晶硅生长装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示天合光能（688599）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“水冷屏结构和单晶硅生长装置”，专利申请号为CN202322605089.1，授权日为2024年4月23日。

专利摘要：本申请涉及一种水冷屏结构和单晶硅生长装置。水冷屏结构包括进水管道、出水管道和多个水冷管，各水冷管均为环形。通过将多个环形水冷管沿重力方向依次间隔设置，从而形成多级并联式的冷却水管道。如此，冷却液从进水管道流入每一层级的水冷管后，冷却液不仅会沿着环形轨迹在当前层级的水冷管内流动，而且还会回流至其他层级的水冷管，也即冷却液的流动路径延长，从而提升了冷却液与晶棒的热交换时间，有利于二者的充分换热，进而有效地将晶棒降温，提高拉晶速度。同时，由于多个水冷管间隔设置，即二者具有间距，因此能够降低相邻水冷管之间的温度干扰，使得晶棒具有一定的温度梯度，提升拉晶速度。

今年以来天合光能新获得专利授权151个，较去年同期增加了169.64%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了8.18亿元，同比增30.98%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成（网信算备310104345710301240019号），与本站立场无关，如数据存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。