证券之星消息,根据企查查数据显示天合光能(688599)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“副室清理装置”,专利申请号为CN202322596211.3,授权日为2024年4月23日。
专利摘要:本申请涉及一种副室清理装置,其包括支撑杆、两个连接杆、两个臂环、清洁件以及动力件,两个连接杆位于支撑杆的一端,且均转动连接于支撑杆的端部;两个臂环一一对应地安装在两个连接杆上;至少一个所述臂环上安装有清洁件,清洁件用于贴合于副室的内壁;弹性件的两端分别连接于两个臂环;动力件连接于其中一个连接杆;两个臂环具有相互靠近的第一状态以及相互远离的第二状态,动力件用于输出动力以拉动两个连接杆相对支撑杆转动以相互靠近,以使臂环处于第一状态;弹性件能够在动力件停止动力输出后通过自身弹性力推动两个臂环相对支撑杆转动以相互远离,以使两个臂环处于第二状态。
今年以来天合光能新获得专利授权151个,较去年同期增加了169.64%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了8.18亿元,同比增30.98%。
数据来源:企查查
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